Riċentement, ħafna ħbieb staqsew dwar il-karatteristiċi tal-miri ta 'sputtering tal-molibdenu.Fl-industrija elettronika, sabiex tittejjeb l-effiċjenza ta 'sputtering u tiġi żgurata l-kwalità ta' films depożitati, x'inhuma r-rekwiżiti għall-karatteristiċi tal-miri ta 'sputtering tal-molibdenu?Issa l-esperti tekniċi minn RSM se jispjegawh lilna.
1. Purità
Purità għolja hija rekwiżit karatteristika bażika tal-mira ta 'sputtering tal-molibdenu.Aktar ma tkun għolja l-purità tal-mira tal-molibdenu, aħjar tkun il-prestazzjoni tal-film sputtered.Ġeneralment, il-purità tal-mira ta 'sputtering tal-molibdenu għandha tkun mill-inqas 99.95% (frazzjoni tal-massa, l-istess hawn taħt).Madankollu, bit-titjib kontinwu tad-daqs tas-sottostrat tal-ħġieġ fl-industrija LCD, it-tul tal-wajers huwa meħtieġ li jiġi estiż u l-wisa 'tal-linja hija meħtieġa li tkun irqaq.Sabiex tiġi żgurata l-uniformità tal-film u l-kwalità tal-wajers, il-purità tal-mira tal-molibdenu sputtering hija meħtieġa wkoll li tiżdied kif xieraq.Għalhekk, skont id-daqs tas-sottostrat tal-ħġieġ sputtered u l-ambjent tal-użu, il-purità tal-mira tal-sputtering tal-molibdenu hija meħtieġa li tkun 99.99% - 99.999% jew saħansitra ogħla.
Il-mira tal-isputtering tal-molibdenu tintuża bħala sors tal-katodu fl-isputtering.L-impuritajiet fis-solidu u l-ossiġnu u l-fwar tal-ilma fil-pori huma s-sorsi ewlenin tat-tniġġis tal-films depożitati.Barra minn hekk, fl-industrija elettronika, minħabba li l-joni tal-metall alkali (Na, K) huma faċli biex isiru joni mobbli fis-saff ta 'insulazzjoni, il-prestazzjoni tal-apparat oriġinali titnaqqas;Elementi bħall-uranju (U) u titanju (TI) se jiġu rilaxxati α X-ray, li jirriżulta fi tqassim artab ta 'apparat;Il-jonji tal-ħadid u tan-nikil se jikkawżaw tnixxija tal-interface u żieda fl-elementi tal-ossiġnu.Għalhekk, fil-proċess ta 'preparazzjoni tal-mira ta' sputtering tal-molibdenu, dawn l-elementi ta 'impurità jeħtieġ li jiġu kkontrollati b'mod strett biex jimminimizzaw il-kontenut tagħhom fil-mira.
2. Id-daqs tal-qamħ u d-distribuzzjoni tad-daqs
Ġeneralment, il-mira tal-molibdenu sputtering hija struttura polikristallina, u d-daqs tal-qamħ jista 'jvarja minn mikron għal millimetru.Ir-riżultati sperimentali juru li r-rata ta 'sputtering tal-mira tal-qamħ fin hija aktar mgħaġġla minn dik tal-mira tal-qamħ oħxon;Għall-mira b'differenza ta 'daqs żgħir tal-qamħ, id-distribuzzjoni tal-ħxuna tal-film depożitat hija wkoll aktar uniformi.
3. Orjentazzjoni tal-kristall
Minħabba li l-atomi fil-mira huma faċli biex jiġu preferenzjali sputtered tul id-direzzjoni tal-eqreb arranġament ta 'atomi fid-direzzjoni eżagonali waqt sputtering, sabiex tinkiseb l-ogħla rata ta' sputtering, ir-rata ta 'sputtering ħafna drabi tiżdied billi tinbidel l-istruttura tal-kristall tal-mira.Id-direzzjoni tal-kristall tal-mira għandha wkoll influwenza kbira fuq l-uniformità tal-ħxuna tal-film sputtered.Għalhekk, huwa importanti ħafna li tinkiseb ċerta struttura ta 'mira orjentata lejn il-kristall għall-proċess ta' sputtering tal-film.
4. Densifikazzjoni
Fil-proċess ta 'kisi sputtering, meta l-mira ta' sputtering b'densità baxxa tiġi bbumbardjata, il-gass eżistenti fil-pori interni tal-mira jiġi rilaxxat f'daqqa, li jirriżulta fit-titjir ta 'partiċelli jew partiċelli fil-mira ta' daqs kbir, jew il-materjal tal-film jiġi bbumbardjat minn elettroni sekondarji wara l-formazzjoni tal-film, li jirriżulta fi titjir tal-partiċelli.Id-dehra ta 'dawn il-partiċelli se tnaqqas il-kwalità tal-film.Sabiex tnaqqas il-pori fis-solidu fil-mira u ttejjeb il-prestazzjoni tal-film, il-mira ta 'sputtering hija ġeneralment meħtieġa li jkollha densità għolja.Għall-mira ta 'sputtering tal-molibdenu, id-densità relattiva tagħha għandha tkun aktar minn 98%.
5. L-irbit tal-mira u tax-chassis
Ġeneralment, il-mira tal-sputtering tal-molibdenu għandha tkun imqabbda max-chassis tar-ram ħieles mill-ossiġnu (jew aluminju u materjali oħra) qabel l-isputtering, sabiex il-konduttività termali tal-mira u tax-chassis tkun tajba matul il-proċess ta 'sputtering.Wara l-irbit, għandha titwettaq spezzjoni ultrasonika biex tiżgura li ż-żona mhux ta 'twaħħil tat-tnejn tkun inqas minn 2%, sabiex tissodisfa r-rekwiżiti ta' sputtering ta 'qawwa għolja mingħajr ma taqa'.
Ħin tal-post: Lulju-19-2022