Bejgħ bl-ingrossa FeCoTa Sputtering Target Purità Għolja Thin Film Pvd Kisi Fabbrikant u Fornitur magħmul apposta |Sinjur

Ħadid Kobalt Tantalu

FeCoTa Sputtering Mira Purità Għolja Thin Film Pvd Kisi Custom Made Dehru Dehru Immaġni

Deskrizzjoni qasira:

Kategorija	Mira Sputtering Liga
Formula Kimika	FeCoTa
Kompożizzjoni	Ħadid Kobalt Tantalu
Purità	99.9%，99.95%，99.99%
Forma	Pjanċi，Miri tal-Kolonna，katodi tal-ark，Magħmul apposta
Proċess ta' Produzzjoni	Tidwib bil-vakwu, PM
Daqs Disponibbli	L≤200mm，W≤200mm

Ibgħat email lilna

Dettall tal-Prodott

Tags tal-Prodott

Il-miri tat-tantalju tal-kobalt tal-ħadid huma ġeneralment disponibbli f'forma ċirkolari u materjali kritiċi ta 'film irqiq ta' midja ta 'reġistrazzjoni manjetika vertikali.L-ammont konsiderevoli ta 'Tantalu preżenti fil-liga jirriżulta f'segregazzjoni u jippreżenta partiċelli mhux maħlula.Aħna nimpjegaw metodu ta 'produzzjoni uniku li jista' jiżgura l-omoġenità tal-mikrostruttura u jtejjeb il-proprjetajiet mekkaniċi tal-materjali.

Isem tal-prodott		FeCoTa
Fe/wt%		Bilanċ	Bilanċ	Bilanċ
Ko/wt%		21.6±0.5	21.9±0.5	20.2±0.5
Ta/wt%		41.1±0.8	39.4±0.8	44.3±0.8
Kontenut ta' impurità tal-metall（ppm）	Ni	≤100	≤100	≤100
	Al	≤300	≤300	≤300
	Si	≤200	≤200	≤200
Kontenut ta' impurità tal-gass（ppm）	C	≤200	≤200	≤200
	N	≤100	≤100	≤100
	O	≤600	≤600	≤600
	S	≤75	≤75	≤75

Rich Special Materials tispeċjalizza fil-Manifattura ta 'Sputtering Target u tista' tipproduċi Ħadid Kobalt Tantalum Sputtering Materjali skond l-ispeċifikazzjonijiet tal-Klijenti.Għal aktar informazzjoni, jekk jogħġbok ikkuntattjana.

Preċedenti: FeCo Sputtering Target Purità Għolja Thin Film Pvd Kisi Magħmul apposta

Li jmiss: FeSi Sputtering Target Purità Għolja Thin Film Pvd Kisi Magħmul apposta