AlTa Sputtering Target Purità Għolja Thin Film Kisi PVD Custom Made
Aluminju-Tantalu
Il-miri huma ppreparati billi jitħalltu trabijiet tal-Aluminju u Tantalju jew tidwib bil-vakwu segwit minn kompattazzjoni għal densità sħiħa.Il-materjali kkumpatti b'hekk huma sinterizzati b'mod fakultattiv u mbagħad jiġu ffurmati fil-forma fil-mira mixtieqa.
Aluminju Tantalum sputtering mira għandha purità għolja, mikrostruttura omoġenja u konduttività eċċellenti.Huwa użat ħafna fil-formazzjoni ta 'films irqaq għall-industrija tal-wiri tal-pannelli ċatti.Aluminju Tantalu jista 'jiġi miżjud ukoll biex jipproduċi liga tat-titanju ta' prestazzjoni għolja biex ittejjeb l-adegwatezza tiegħu għal temperatura għolja.
Kontenut ta 'impurità ta' liga Al-Ta
| kompożizzjoni | Kontenut（%） | ||||
| Ta | Fe | Si | C | O | |
| AlTa60 | 55.0 ~ 65.0 | ≤0.05 | ≤0.02 | ≤0.01 | ≤0.05 |
| AlTa70 | 65.0 ~ 75.0 | ≤0.05 | ≤0.02 | ≤0.01 | ≤0.05 |
Rich Special Materials tispeċjalizza fil-Manifattura ta 'Sputtering Target u tista' tipproduċi Materjali ta 'Aluminum Sputtering Tantalum skond l-ispeċifikazzjonijiet tal-Klijenti.Il-prodotti tagħna għandhom proprjetajiet mekkaniċi eċċellenti, struttura omoġenja, wiċċ illustrat mingħajr segregazzjoni, pori jew xquq.Għal aktar informazzjoni, jekk jogħġbok ikkuntattjana.
